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CAS 14221-01-3 四三苯基膦钯
2024-03-05 18:54  浏览:38
CAS 14221-01-3  四三苯基膦钯

14221-01-3 - 基本信息

中文名 四(三苯基膦)钯(0)

英文名 Tetrakis(triphenylphosphine)palladium(0)

别名 四三苯基膦钯

四-三苯基膦钯

四(三苯基膦)钯

四(三苯膦)化钯

四(三苯基磷)钯

四(三苯基膦)钯(0)

高分子交联Salen Co(Ⅱ)环氧化物水解拆分专用催化剂

英文别名 K0545

(beta-4)-palladiu

Tetrakis(triphenylphosphine) p

Terakis(triphenylphosphine)palladi

Tetra(triphenylphosphine) palladium

Tetrakis(triphenylphosphine)palladiu

Tetrakis (iphenylphosphine) Pplladium

Tetrakis(triphenylphosphine)palladium

tetrakis (triphenyl phosphine)palladium

tetrakis(triphenylphosphin)-palladium(O)

Tetrakis(triphenylphosphine)palladium(0)

Tetrakis(triphenylphosphine)palladium(o)

Palladium(0) tetrakis(triphenylphosphine)

Tetrakis(triphenylphosphine)palladium (0)

Tetrakis(triphenylphosphine)palladium(II)

Tetrakis(triphenylphosphine) palladium(0)

Tetrakis(Triphenylphosphine) Palladium (0)

Palladium, tetrakis(triphenylphosphine)-, (T-4)-

Tetrakis(triphenylphosphine)Palladium(0), Pd(PPh3)4

Tetrakis(triphenylphosphine)palladium(0) Store refrigerated Protect from light

CAS 14221-01-3

EINECS 238-086-9

化学式 C72H60P4Pd

分子量 1155.561844

InChI InChI=1/4C18H15P.Pd/c4*1-4-10-16(11-5-1)19(17-12-6-2-7-13-17)18-14-8-3-9-15-18;/h4*1-15H;/rC72H60P4Pd/c1-13-37-61(38-14-1)73(62-39-15-2-16-40-62,63-41-17-3-18-42-63)77(74(64-43-19-4-20-44-64,65-45-21-5-22-46-65)66-47-23-6-24-48-66,75(67-49-25-7-26-50-67,68-51-27-8-28-52-68)69-53-29-9-30-54-69)76(70-55-31-10-32-56-70,71-57-33-11-34-58-71)72-59-35-12-36-60-72/h1-60H

InChIKey NANALCPCPBPJAB-UHFFFAOYSA-N

熔点 103-107 °C

沸点 360℃ at 760 mmHg

水溶性 insoluble

溶解度 Chloroform (Slightly), Ethyl Acetate (Slightly), Methanol (Slightly)

存储条件 2-8°C

稳定性 Light Sensitive, Moisture Sensitive

敏感性 7: reacts slowly with moisture/water

外观 Fine Powder or Platelets

颜色 Bright yellow to khaki

BRN 6704828

物化性质 黄色结晶,溶于苯、甲苯,不溶于醚和醇,对空气中敏感,避光冷藏保存。四(三苯基膦)钯作为一种重要的过渡金属催化剂,可用于催化偶联、氧化、还原、消除、重排、异构化等多种反应。其催化效率很高,可以催化许多在同类催化剂作用下很难发生的反应。该试剂通过用肼还原PdCl2(Ph3P)2得到,或由Pd2(DBA)3与PPh3反应制备。四(三苯基膦)钯对光照和空气敏感,需要在惰性气体中避光保存。使用该试剂时,可以在空气中短时间操作,但好于真空设备中在氮气或氩气保护下操作。


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