保护气氛热处理炉，箱式气氛热处理炉，箱式炉，气氛热处理以硅碳棒为加热元件，采用双层壳体结构和宇电程序控温

仪表，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，采用外壳

整体密封、盖板密封采用硅胶泥、炉门采用硅胶垫并通有水冷系统，气体经过流量计后由后膛进入，并可以用真空泵预

抽真空排除炉膛内气体,有多处洗炉膛进气口、出气口处有燃烧嘴，可以通氢气、氩气、氮气、氧气、一氧化碳、氨分解

气等气体

电 器：正泰
加热元件：硅碳棒
炉 膛：1600℃型氧化铝多晶体纤维
控温仪表：厦门宇电
进气系统：浮子流量计
测压系统：压力表 （可根据需要配置电阻真空计（选购））