精密金属掩膜版钙钛矿掩模板金属遮光罩厂家直供可定制

掩膜版（Photomask），又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版等，是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版， 由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形，并通过曝光将图形转印到产品基板上。掩膜版是芯片制造过 程中的图形“底片”，用于转移高精密电路设计，承载了图形设计和工艺技术等知识产权信息。掩模版用于芯片 的批量生产，是下游生产流程衔接的关键部分，是芯片精度和质量的决定因素之一。

掩膜版材料及厚度的选取：

材质的选取方面，我们选用高韧性的SUS304 H不锈钢材料，这样做出来的掩膜版不但精度高，而且表面光滑，产品不易受弯折而变形，经久耐用，同时还能够让掩膜版板与器件保持很紧密的贴合，减少阴影效果。

我们所采用的不锈钢厚度包括0.03mm,0.05mm,0.06mm,0.08mm到1 mm的各种尺寸，采用较薄的不锈钢制备出来的掩膜版所产生的阴影效果会较少,扰度较可控。

本公司承接各种图案定制，客户较好能提供包含尺寸的CAD版设计图。如果画图实在有困难，我们可以根据客户描述来绘制，同时我们还能对客户的掩膜版设计提供一些建议。