多源蒸发系统介绍
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主要用途：
系统主要用来生长EL OEL分子有机电致发光器件薄膜的研究工作
系统组成:
该类设备为双室带手套箱结构的有机、无机、多源有机、无机气相分子沉积设备，采用直线式结构，由一个金属材料生长、氧化物生长室、一个有机材料生长室和一个手套箱组成，300A蒸发镀膜机批发，金属材料生长和氧化物生长室以及进样室/氧化物生长室之间通过空气锁联接，样品通过带远程手控盒功能的电动磁力耦合装置在两个生长室之间手动传递。
可选手套箱。
技术指标：
有机蒸发室：经烘烤6小时左右，并连续抽气真空优于8.0×10 Pa 无机蒸发室：经烘烤6小时左右，并连续抽气真空优于6.6×10 Pa 蒸发室：方形真空室，尺寸：450×400×350mm 恢复真空时间：40分钟可达6.6×10 Pa（短时间暴露大气并充干燥氮气后开始抽气） 样品尺寸：50×50mm 或100×100mm 设有掩膜板和掩膜库金属材料/氧化物生长室可放置1-4个热阻蒸发舟和一个掩膜库有机材料生长室可放置1-8个高温或低温束源炉石英晶振膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999?可选分子泵组或者低温泵组合涡旋干泵抽气系统，可选手套箱。
有机热蒸发镀膜机介绍
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真空：极限真空6*10 -5 帕
工作真空6*10 -4 帕
恢复工作真空时间：连接手套箱≤10分钟
不连接手套箱，充干燥氮气≤30分钟
本套设备配有8个有机源及2个金属源
金属蒸发源和有机蒸发源可按客户要求配置
膜厚探头及膜厚仪有国产或者进口可选
金属蒸发源配有1000w电源
有机蒸发源配有可控温电源，控温精度±1℃
双靶磁控溅射镀膜仪
产品特点
1、此款镀膜仪配置有两个靶枪：一个靶枪配套的是射频电源，用于非导电靶材的溅射镀膜；一个靶枪配套的是直流电源，用于导电材料的溅射镀膜
2、该镀膜仪可以制备多种不同材料的薄膜，应用非常广泛。
3、该镀膜仪体积较小，300A蒸发镀膜机销售，且配备有触摸屏控制面板，操作方便。
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