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无尘车间要控制相对湿度，以下几个影响因素也是关键：

金属腐蚀：很多化学反应的速度，包括腐蚀过程，将随着相对湿度的增1高而加快。所有暴露在无尘车间、洁净室周围空气中的表面都很快地被覆盖上至少一层单分子层的水。当这些表面是由可以与水反应的薄金属涂层组成时，高湿度可以使反应加速。幸运的是，一些金属，净化工程多少钱，例如铝，可以与水形成一层保护型的氧化物，并阻止进一步的氧化反应；但另一种情况是，例如氧化铜，是不具有保护能力的，因此，在高湿度的环境中，铜制表面更容易受到腐蚀。

水汽冷凝：在相对湿度较高的环境中，浓缩水形的毛细管力在颗粒和表面之间形成了连接键，可以增加颗粒与硅质表面的黏附力。这种效应——凯尔文浓缩——当相对湿度小于50%时并不重要，杭州净化工程，但当相对湿度在70%左右时，就成为颗粒之间黏附的主要力量。 所以必须要对无尘车间相对湿度控制。

光刻的退化：这在半导体无尘车间、洁净室中最迫切需要适当控制的是光刻胶的敏感性。由于光刻胶对相对湿度极为敏感的特性，它对相对湿度的控制范围的要求是最严格的水准。实际应用上，相对湿度和温度对于光刻胶稳定性以及精1确的尺寸控制都是很关键的。甚至是在恒温条件下，光刻胶的粘性将随着相对湿度的上升而迅速下降。当然，改变粘性，就会改变由固定组分涂层形成的保护膜的厚度。

还有就是吸水性，在高的相对湿度环境下，由于水分的吸收，使烘烤循环后光刻胶膨胀加重。光刻胶附着力同样也可以受到较高的相对湿度的负1面影响；较低的相对湿度(约30%)使光刻胶附着更加容易，甚至不需要聚合改性剂，如六甲1基二硅氮烷(HMDS)。

无尘车间的送风量计算与一般空调的不同。一般空调(全空气系统)的送风量是根据计算出的热湿负荷，选取经济的送风温差，按消除余热、余湿来计算送风量。

　　而无尘车间的送风量计算一般不依赖于热湿负荷，它主要是根据不同的洁净度按断面平均风速或换气次数来计算送风量。必要时，再用热湿负荷进行送风量的校核计算，净化工程施工，一般情况下都能满足消除余热、余湿的要求。也就是按断面平均风速或换气次数计算的送风量通常要大于按消除余热、余湿计算的送风量。

电子制造业洁净车间温湿度标准：一般来说，电子厂房的温度应控制在22℃左右，相对湿度控制在50-60%之间(特殊洁净车间有相关温湿度规定)。

芯片生产车间、集成电路无尘室和磁盘制造车间是属于电子制造行业洁净室的重要组成部分，由于电子产品在制造、生产过程中对室内空气环境和品质的要求极为严格，主要以控制微粒和浮尘为主要对象，同时还对其环境的温湿度、新鲜空气量、噪声等作出了严格的规定。需要消除静电，并使人也感觉舒适。