具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，洁净室施工，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，万级洁净室，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，无尘洁净室，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。
实验室净化工程为客户提供的是一站式“交钥匙”工程，降低了采购成本，合肥洁净室，可减少客户大量的精力、物力和人力的投入，客户无需考虑过多的技术细节问题。有了整体实验室净化工程解决方案，就如同为客户提供一个统一的界面，将所有的设备供应商、工程承包商、服务供应商整合在一起，系统化的进行设备配置，保证了整个实验室的容量和设备间的配套，满足当前和未来发展的需要。
根据大量验收测定发现，低照度值达到200lx以上就比较困难，实际上150lx已相当亮了，因为平均照度要高于它很多.工作区内用平均照度意义不大，因为有若干点在150lx以下，就不适合工作。对于特别要求高照度操盘点可以采用局部照明，而不宜普遍提高整个车间的低照度标准。除可利用局部照明外，必要时也可利用自然光，当平面上有外廊时就可以做到这一点。
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