真空电镀：Vacuum metalizing，即是物理气相沉积（PVD），即在真空下将原子打到靶材表面上达到镀膜的目的。早运用于光学镜片，如航海望远镜镜片，后来随着技术的改进，延伸到了唱片、磁盘、光盘、手机外壳、机械刀具等材料上的装饰镀膜、材料表面改性等。
工艺特点
工艺成本
模具费用（无）
单件费用（中）
批量生产（中）
典型应用
反射涂层；
消费电子产品和隔热板的表面处理；
产量范围单件到大批量皆可
质量优势适合高质量，真空电镀加工，高亮和产品表面保护层
生产效率速度慢，具体取决于设备内靶材存放量，通常为6小时/周期（包括喷漆工序）
浅析电镀之后有哪些不良情况
1.锡铅重熔：指镀层表面有如山丘平原状（似起泡，但密着性良好），只有锡铅镀层会发生。
2.端子熔融：指表面有受热熔成凹洞状，通常是在铜素材（镀镍前）或锡铅电镀时造成。
3.镀层烧焦：指镀层表面严重黑暗，粗糙，如碳色一般。（指高电流密度区）
4电镀厚度太高：指实际镀出膜厚超出预计的厚度。
5.电镀厚度不足：指实际镀出膜厚低于预计的厚度
6.电镀厚度不均：指实际镀出膜厚时高时低，pvd真空电镀加工厂，或分布不均。
7.镀层暗红：通常指金色泽偏暗偏红。
8.界面黑线，真空电镀加工厂，雾线：通常在半镀锡铅层的界面有此现象。
在高真空度的条件下，高纯度的镀层金属(如铝)在高温下蒸发后会自由地飞散开并沉降在工件表面，形成镀层。
真空电镀原理：
一般而言，镀膜在真空镀膜机内以真空度 1~5 x 10 -4 Torr程度进行 (1 Torr = 1 公厘柱高的压力，真空电镀加工费，大气压为 760 Torr)。其镀膜膜厚约为 0.1 ~ 0.2 微米。
如果镀膜在特定厚度以下时(即太薄)，面油对底油将会产生侵蚀、引起化学变化(如表面雾化等)。如镀膜过厚时，会产生白化的状态。
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