旋转硅靶 Rotatable Si target
产品用途：用于制作SiO2/Si3N4膜，主要用于光学玻璃、触摸屏之AR膜系，Low-E玻璃膜系, ,半导体,平面显示,触摸屏。
产品参数:
密度: > 2.2g/cm3（>95%）
纯度: > 99.95%
总杂质含量≤ 500ppm
旋转硅靶 Rotatable Si target
产品用途：用于制作SiO2/Si3N4膜，主要用于光学玻璃、触摸屏之AR膜系，Low-E玻璃膜系, ,半导体,平面显示,触摸屏。
产品参数:
密度: > 2.2g/cm3（>95%）
纯度: > 99.95%
总杂质含量≤ 500ppm