蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，待镀工件，如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后，加热坩埚使其中的物
质蒸发。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。
膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间（或决定于装料量），并与源和基片的距离有关。对于大面积镀膜，常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。
真空镀膜产品需要怎么维护？
真空镀膜产品长期暴露在空气中，面对酸碱等强腐蚀性物质的接触，还是难以抵挡。因此，平时保养维护时，尽量不选用含强酸强碱或去污能力强的清洗剂，如洁厕精，脱漆剂，金属清洗剂等，可以选用工业酒精用绒布轻柔擦拭；如果表面有污垢，也要选用弱酸弱碱溶剂来处理。此外，如果长时间暴露在恶劣环境中，或与腐蚀性液体长时间接触，PVD膜层也容易出现脱落等问题，如游泳池（含氟），海水（含盐分多），高温高湿（蒸汽）等环境中。
相对于传统镀膜方式，真空镀膜应用属于一种干式镀膜，金属真空镀膜加工，它的主要方法包括以下几种：
真空蒸镀
其原理是在真空条件下，金属真空镀膜厂，用蒸发器加热带蒸发物质，使其气化或升华，蒸发离子流直接射向基片，并在基片上沉积析出固态薄膜的技术。
溅射镀膜
溅射镀膜是真空条件下，在阴极接上2000V高压电，激发辉光放电，金属真空镀膜厂家，带正电的离子撞击阴极，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基片上形成膜层。
离子镀膜
即干式螺杆真空泵厂家已经介绍过的真空离子镀膜。它是在上面两种真空镀膜技术基础上发展而来的，因此兼有两者的工艺特点。在真空条件下，利用气体放电使工作气体或被蒸发物质(膜材)部分离化，并在离子轰击下，金属真空镀膜，将蒸发物或其反应物沉积在基片表面。在膜的形成过程中，基片始终受到高能粒子的轰击，十分清洁。
真空卷绕镀膜
真空卷绕镀膜是一种利用物理气相沉积的方法在柔性基体上连续镀膜的技术，以实现柔性基体的一些功能性、装饰性属性。
上述四种都属于物理气相沉积技术应用(PVD)。
接下来是化学气相沉积(CVD)。它是以化学反应的方式制作薄膜，原理是一定温度下，将含有制膜材料的反应气体通到基片上并被吸附，在基片上产生化学反应形成核，随后反应生成物脱离基片表面不断扩散形成薄膜。
束流沉积镀，结合了离子注入与气相沉积镀膜技术的离子表面复合处理技术，是一种利用离化的粒子作为蒸镀材料，在比较低的基片温度下，形成具有良好特性薄膜的技术。
金属真空镀膜厂-金属真空镀膜-泰坦金属制品有限公司由东莞市泰坦金属制品有限公司提供。东莞市泰坦金属制品有限公司（www.dgtaitan.com）是从事“金属制品;货物进出口、技术进出口。”的企业，公司秉承“诚信经营，用心服务”的理念，为您提供高质量的产品和服务。欢迎来电咨询！联系人：王总。
