化学机械抛光液一般由去离子水、 磨料、ph值调节剂、氧化剂以及分散剂等添加剂组成,根据ph值不同, 分为酸性和碱性。
化学抛光液及其组分的作用.
1磨料
磨料在抛光过程中主要通过微切削、微划擦、滚压等方式作用于工件被加工表面,去除表面材料。的化学机械抛光过程是磨料的机械去除表面材料
厚度等于化学反应生成物层厚度,铝合金抛光垫价格,此时,磨粒只需较小的机械作用去除结合力较弱的化学反应层的生成物,可减少或避免抛光表面缺陷。磨料的硬度、粒
径形状及其在抛光液中的质量浓度等综合因素决定了磨粒的去除行为和能力。
本产品为氨脂抛光垫,惠州铝合金抛光垫,是我司独立开发苹果手机铝合金后壳表面打磨抛光,研制一款即可以在短时间内切削铝壳表面刀痕,又可以使铝壳表面达到亚光效果的抛光垫,取消了由传统的白色抛光垫做粗磨生产(主要白色抛光垫切削速率慢,不耐磨),并且非常耐磨。经过多家生产铝壳厂商认证可以连续使用7-10天左右,该产品始终保持良好的效果。
为使铝壳加工达到更的效果,我司还搭配自已研发生产的铝合金粗抛液,使产品加工更加轻松稳定。
厚度:0.5mm;0.8mm;1.0mm;1.5mm;2.0mm;3.0mm;4.0mm
多种规格多种硬度,满足不同客户的使用,接受按要求订制。
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