PVD离子镀膜机厂家 至成真空科技 离子镀膜机

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采用PVD镀膜技术镀出的膜层有什么优势


采用PVD镀膜技术镀出的膜层,具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系数)、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点,膜层的寿命更长;同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。PVD膜层能直接镀在不锈钢、硬质合金上、钛合金、陶瓷等表面,对锌合金、铜、铁等压铸件应先进行化学电镀铬,然后才适合镀PVD。PVD镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的环保型表面处理方法,它能够制备各种单一金属膜(如铝、钛、锆、铬等)、氮化物膜(TiN[钛金]、ZrN〔锆金〕、CrN、TiAlN)和碳化物膜(TiC、TiCN),以及氧化物膜(如TiO等)。PVD镀膜膜层的厚度为微米级,厚度较薄,一般为0.1μm~5μm,其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.1μm~2μm,因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能,并能够维持工件尺寸基本不变,镀后不须再加工。

多弧离子真空镀膜机镀膜技术具有以下特点:可以任意安装使薄膜均匀。外加磁场可以改善电弧放电;使电弧细碎;旋转速度加快;细化膜层微粒;对带电粒子产生加速作用。金属离化率高,有利于薄膜的均匀性和提高附着力,是实现离子镀膜的良好工艺。一弧多用,既是蒸发源,又是预轰击净化源和离化源。



PET真空镀膜设备相关问题的解决方法


PET真空镀膜设备平均水消耗量为0.6m3/小时,每小时平均耗电:850W,每30天更换5次过滤芯,更换过滤芯数量20只,每天消耗过滤芯数量:0.7只,过滤芯可后级更换前级,更换周期也可根据具体情况延长。

设备在交付时会提供操作、调试、维修等一系列全套技术资料,包括操作和维修手册。维修手册中含电路图、气路图、水管路图,并列出控制设备、控制元件、易耗品以及易磨损的部件名称、型号、规格、制造商或供应商,以便用户可以随时修理与维护清洗设备。



PACVD硬质涂层真空镀膜机系统的特点:


(1)2个等离子激发源(射频,直/直流脉冲)(2)安装在两边的2闭合场非平衡磁控管溅射(3)带有一个前门的六角形真空室,保证一个洁净的环境(4)干式真空系统设计安装在一个单独的空间,处理高吞吐量的碳氢化合物和其他工艺气体(5)基材和导电与非导电涂层及组合原位清洗的离子激发系统(6)可选择的等离子体激发模式和频率使等离子的密度和能量适应基材增压特性,以小压强进行电离作用(8)单独的PACVD工艺中不强制转动的时候,一种行星式转动也能够使溅射涂层统一沉积(9)特别是在PACVD过程特殊设计的进气系统能够优化涂层的均匀性和清洁度(10)泵的选择编排和上下的蒸汽压力调节,保证了涂层系统的高可靠性(11)iFIX基础的控制系统,易于批次、配方和报警处理(12)所有数据的采集,保证良好的过程控制。工艺过程中定制曲线图做到良好检查方案。在批次运行过程中,操作者也可更改或新建工艺(13)用户可自行设置进入控制系统的权限,以保证系统的质量和安全性


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136
发布时间
2021-01-29 02:32
所属行业
化工成型设备
编号
24311650
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