离子镀：蒸发物质的分子被电子碰撞电离后以离子沉积在固体表面，化学气相沉积技术，称为离子镀。这种技术是D.麦托克斯于1963年提出的。离子镀是真空蒸发与阴极溅射技术的结合。一种离子镀系统将基片台作为阴极，金属化学气相沉积，外壳作阳极，充入惰性气体（如）以产生辉光放电。从蒸发源蒸发的分子通过等离子区时发生电离。正离子被基片台负电压加速打到基片表面。未电离的中性原子（约占蒸发料的95％）也沉积在基片或真空室壁表面。
化学气相沉积作为蒸发源的材料必须具备熔点高、挥发低、高温冷却后脆性小等性质。常用的线状蒸发源应能与蒸发金属相润湿，熔点远远大于待镀金属的蒸发温度，不与待镀金属发生反应生成合金。
Parylene D是系列中的第三个成员，它由雷同的单体系方式成，只是将其中两个芳香烃氢原子被氯原子庖代。Parylene D的性子与Parylene C相似，但是具有更高的耐热能力。
什么是派瑞林?
它是一种透明无色的聚酯保护材料。 适用于室温下的真空镀膜，真空镀膜压力在10-5托以下，而派瑞林镀膜工艺在0.1托左右。 涂层的厚度可控制在1-100微米之间，该涂层是美国在60年代初开发的，应用于美国印刷电路板、航空航天和水下发射装置的微电子元件领域，1972年被纳入美国标准：MIL-I-46058C
微纳米加工技术：化学气相沉积工艺（CVD）
将粉末状的纳米原料放入真空纳米涂层设备的蒸发室，沙田化学气相沉积，通过150℃-180℃的温度蒸发为气态分子，在真空（1.0*10-2torr）作用下气态的10nm以下纳米分子进入到裂解室，多功能化学气相沉积，在裂解室680℃-700℃的高温裂解为具有反应活性的单体，活性单体与单体之间重新聚合，形成一层致密无的纳米膜层。
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