具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。
例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。
而随着净化技术的发展，建设净化车间的技术含量也越来越高。
除了在生产领域，净化工程技术还会逐渐应用于家庭、公共场合，净化工程设计，为人们提供更洁净的生活空间布置工艺的流程尽可能短，减少交叉往复，、物流走向合理。
要配备人员净化室、物料净化室，除配备产品工序要求的用室外，还应配备洁具室、洗衣间、暂存室等，每间用室相互独立，净化工程的面积应在保证基本要求前提下，与生产规模相适应。
压力差的维持依靠新风量，这个新风量要能补偿在这一压力差下从缝隙漏泄掉的风量。
所以压力差的物理意义就是漏泄（或渗透）风量通过洁净室的各种缝隙时的阻力。
100级：是常用的净化工程，除了对空气中的尘埃数有要求，黄山净化工程，对空气中细菌的浓度也有明确要求。
一般用于行业进行无菌制造，净化工程公司，例如制造临床用于植入体内的物品，药品生产。
医学科学实验也在此环境中，包括实验动物饲养环境。
相对湿度越高，粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。
对于硅片生产温度范围为35—45%。
圆弧墙角、门、窗框等一般采用氧化铝型材。
我们国家的空气分子控制等的技术正在朝有利的方向发展，这项技术原先是由日本发展起来的，现在已经受到了全世界的关注和认可，在我们国家，净化工程施工，这项技术已经受到了相关行业的重视并且投入研发，相信在不久的未来，我们国家的相关科研人员一定会在这个领域取得让人满意的成绩，为我们国家的净化工程行业做出贡献。
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