单室/双室/多室磁控反应溅射镀膜机 该镀膜机主要用於太阳能吸热管所需要的镀膜涂层（如Al—N/Al或Cu—C/1Cr18Ni9Ti）；轿车後视镜镀膜（蓝玻）；装饰仿金、七彩镀膜；透明导电膜（ITO膜）；保护膜。技术指标：真空室尺寸：可以根据用户的要求设计成单室或双室或多室极限压力：8×10-4Pa恢复真空度时间：空载 从大气至 5 × 10-2Pa ≤ 15min（根据用户要求定）工作真空度：10～1.0× 10-1Pa工艺气体进入装置：质量流量控制器（可选配自动压强控制仪）工作气路：2路或3路转动工件架形式：公 / 自转工件架溅射源：矩形平面溅射源（1～4个）/柱状溅射源（1个）/混合溅射源
在有些情况下，如镀铬，是采用铅、铅锑合金制成的不溶性阳极，它只起传递电子、导通电流的作用。电解液中的铬离子浓度，需依靠定期地向镀液中加入铬化合物来维持。电镀时，沥林真空电镀，阳极材料的质量、电镀液的成分、温度、电流密度、通电时间、搅拌强度、析出的杂质、电源波形等都会影响镀层的质量，真空电镀厂，需要适时进行控制。首先电镀液有六个要素：主盐、附加盐、络合剂、缓冲剂、阳极活化剂和添加剂。电镀原理包含四个方面：电镀液、电镀反应、电极与反应原理、金属的电沉积过程。
PVD即物理气相沉积，是当前国际上广泛应用的先进的表面处理技术。其工作原理就是在真空条件下，不锈钢真空电镀，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时把蒸发物或其反应物沉积在基材上。它具有沉积速度快和表面清洁的特点，真空电镀工艺，特别具有膜层附着力强、绕性好、可镀材料广泛等优点。 采用先进的磁控溅射离子镀膜和多弧离子镀膜工艺设备，及在此基础之上与国际的工艺创新。凭借在装饰镀行业十多年的宝贵经验，为客户提供适合的涂层加工方案。
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