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不同级别的无尘车间分别应用的领域有哪些?

　　千级无尘车间：这个级别的洁净室净化工程主要用于高质量光学产品的生产，还用于测试，装配飞机蛇螺仪，装配高质微型轴承等。

　　万级无尘车间：万级洁净室净化工程用于液压设备或气压设备的装配，某些情况下也用于食品饮料工业，此外，万级洁净室净化工程在医工业中也很常用。

无尘车间要控制相对湿度，以下几个影响因素也是关键：

金属腐蚀：很多化学反应的速度，包括腐蚀过程，将随着相对湿度的增1高而加快。所有暴露在无尘车间、洁净室周围空气中的表面都很快地被覆盖上至少一层单分子层的水。当这些表面是由可以与水反应的薄金属涂层组成时，温州洁净车间，高湿度可以使反应加速。幸运的是，一些金属，例如铝，可以与水形成一层保护型的氧化物，并阻止进一步的氧化反应；但另一种情况是，例如氧化铜，是不具有保护能力的，因此，在高湿度的环境中，洁净车间公司，铜制表面更容易受到腐蚀。

水汽冷凝：在相对湿度较高的环境中，浓缩水形的毛细管力在颗粒和表面之间形成了连接键，可以增加颗粒与硅质表面的黏附力。这种效应——凯尔文浓缩——当相对湿度小于50%时并不重要，但当相对湿度在70%左右时，就成为颗粒之间黏附的主要力量。 所以必须要对无尘车间相对湿度控制。

光刻的退化：这在半导体无尘车间、洁净室中迫切需要适当控制的是光刻胶的敏感性。由于光刻胶对相对湿度极为敏感的特性，它对相对湿度的控制范围的要求是严格的水准。实际应用上，相对湿度和温度对于光刻胶稳定性以及精1确的尺寸控制都是很关键的。甚至是在恒温条件下，光刻胶的粘性将随着相对湿度的上升而迅速下降。当然，改变粘性，就会改变由固定组分涂层形成的保护膜的厚度。

还有就是吸水性，在高的相对湿度环境下，由于水分的吸收，使烘烤循环后光刻胶膨胀加重。光刻胶附着力同样也可以受到较高的相对湿度的负1面影响；较低的相对湿度(约30%)使光刻胶附着更加容易，甚至不需要聚合改性剂，如六甲1基二硅氮烷(HMDS)。

无尘车间对基础地坪的要求 1.施工地面含水率：不得大于8%。

2.地面强度与地面粗糙度：一般要求地面强度不小于300kg/cm2(C30)，洁净车间价格，厚度保证在20cm以上，终地面粗糙度为铁板光(0.8～1.6)。

3.地板平整度：一般要求地板在任意的2平方米内平整度不得大于2mm，测量可以采用2米长的检查直尺与塞尺进行，如果超差，可用砂轮机或角   向磨光机进行平整度的整改。

4.防止施工缺陷：地面要求不空鼓、无裂缝、不起砂、无油漆、胶水、放1火涂料等附着物，无柴油、煤油、机油等油类浸透的油渍、无积水及化学物质浸损地面的现象。