曝光显影双色氧化的工艺原理：
双色氧化是利用多种工艺手段在铝件上阳极氧化并形成两种颜色的过程。
亮面标牌曝光显影
曝光显影是通过对未聚合光刻胶的化学分解来使图案显影，亮面标牌曝光显影工厂，显影技术被设计成使之把完全一样的掩膜版图案到光刻胶上。.正光刻胶显影：碱（或） 水溶液、或叠氮化四铵氢氧化物的溶液（TMAH）;显影：干法光刻胶显影要求光刻胶化学物的曝光或未曝光的部分二者之一易于被氧等离子体去除，换言之图案的部分从晶圆表面上氧化掉，亮面标牌曝光显影
曝光显影的工艺流程 曝光显影是通过对未聚合光刻胶的化学分解来使图案显影，亮面标牌曝光显影，负光刻胶显影：或stoddart溶剂显影，n-丁基醋酸盐冲洗；喷射-对负胶而言是标准工艺，对温度敏感的正胶却不是很有效，隔热冷却（adiabatic cooling）；显影：干法光刻胶显影要求光刻胶化学物的曝光或未曝光的部分二者之一易于被氧等离子体去除，换亮面标牌曝光显影
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