在掩膜次序中有较宽的特征图形尺寸、较平的表面和较低的密度，所有这些会使掩膜良品率更高。
曝光后应尽快进行显影步骤中的烘干处理，手机壳曝光显影生产商，从而有效降低驻波效应的影响，这是由于曝光过程中，手机壳曝光显影哪家好，入射光和反射光会产生相互干涉， 手机壳曝光显影手机壳曝光显影手机壳曝光显影
进行曝光操作前，需要对印刷有油墨的pcb高密度多层板进行烘干处理。
光源的选择、曝光时间的长短、底片的生产、储存和使用，曝光机的真空系统和真空曝光框架材料的选择等因素将影响曝光成像的质量。
按相同方法固定另一面底片。
将板件放在干净的曝光机上玻璃面上，盖上曝光机盖并扣紧，手机壳曝光显影公司，关闭进气阀，设置曝光机的真空时间为10秒，曝光时间60秒。
曝光，是用紫外线光照射，以黑色不透光底片当遮掩介质，石排手机壳曝光显影，而无遮掩的部分油墨发生化学反应固化在pcb高密度多层板上，进行图形转移，把底片上的线路转移到敷铜板上 操作流程：将曝光机的定位光源打开，通过定位孔将底片与电源板一面（底片的放置将有形面朝下，背图形面朝上的方法放置）用透明胶固定好，同时确保板件其他孔与底片的重合。
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