真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。
物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。
制备硬质反应膜大多以物理气相沉积方法制得，深圳化学气相沉积，它利用某种物理过程，如物质的热蒸发，超声波化学气相沉积，或受到离子轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质原子从源物质到薄膜的可控转移过程。
由于底、面涂层材料的发展，金属化学气相沉积，真空镀膜设备的不断完善与连续化、大型化，真空镀进入工业化的生产阶段，同时渗透到各个科学领域，已成为世界上从20世纪80年代起竞相采用的先进表面处理技术之一，广泛应用于金属、木材、纸张、塑料等多种基材的镀件上，逐步展示出真空镀在应用中的作用。
其中涂料的选择与应用是关系装饰性真空镀膜质量的重要因素
镀膜是用物理或化学的方法在材料表面镀上一层透明的电解质膜，或镀一层金属膜，目的是改变材料表面的反射和透射特性。
光学镀膜是在光学干涉原理，在可见光和红外线波段范围内，使反射率在78-98%之间，cvd化学气相沉积，以达到透光率，光学镀膜技术一直是光学领域中不可忽略的重要基础技术。
在我们的日常生活中，光学镀膜随处可见，如平时戴的眼镜、数码相机、各式家电用品，或者是上的防伪技术，领域的各种设备、领域的等等。
普遍的是在太阳光下看手机屏的字，由于反射光透不强，屏幕模糊，这需要屏幕的光学镀膜来达到透射清晰效果。
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