pvd真空电镀的功能原理怎么样？
pvd真空电镀的原理主要是物理气相沉积，pvd真空镀膜加工，其是当前国际上广泛应用的先进的表面处理技术。其工作原理就是在真空条件下，pvd真空镀膜公司，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时把蒸发物或其反应物沉积在基材上。pvd真空电镀，抗腐蚀，耐腐蚀，化学性能稳定，抗酸。手机外壳PVD镀膜抵抗力，镀膜外壳容易清除油漆和指纹。在强烈的阳光，咸的湿地和城市环境下，都不失去光泽，不氧化，不脱落。高度耐磨损，耐刮擦，不易划伤。可镀材料广泛，与基体结合力强。
厚度均匀性主要取决于：
1、基片材料与靶材的晶格匹配程度
2、基片表面温度
3、蒸发功率，pvd真空镀膜厂，速率
4、真空度
5、镀膜时间，厚度大小。
组分均匀性：
蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。
晶向均匀性：
1、晶格匹配度
2、基片温度
3、蒸发速率
对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，陈村pvd真空镀膜，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且终沉积在基片表面，经历成膜过程，终形成薄膜。
后者是采用化学还原法，必须把膜材配制成溶液，并能迅速参加还原反应，这种镀膜方法不仅薄膜的结合强度差，而且镀膜既不均匀也不易控制，同时还会产生大量的废液，造成严重的污染。因此，这两种被人们称之为湿式镀膜法的镀膜工艺受到了很大的限制。真空镀膜则是相对于上述的湿式镀膜方法而发展起来的一种新型镀膜技术，通常称为干式镀膜技术。
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