河源稀土抛光粉 康运复合 稀土抛光粉厂家

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因此其粒度分布一般不大于10μm,粒度大于10μm的抛光粉(包括稀土抛光粉)大多用在玻璃加工初期的粗磨。小于1μm的亚微米级稀土抛光粉,由于在液晶显示器与电脑光盘领域的应用逐渐受到重视,产量逐年提高。纳米级稀土抛光粉目前也已经问世,随着现代科学技术的发展,其应用前景不可预测,但目前其市场份额还很小,属于研发阶段。






以上原料中除种外,第2,3,4种均含轻稀土(w(REO)≈98%),且以CeO2为主,w(CeO2)为48%~50%.我国具有丰富的资源,据测算,稀土抛光粉价格,其工业储量约为1800万吨(以CeO2计),这为今后我国持续发展稀土抛光粉奠定了坚实的基础,也是我国独有的一大优势,并可促进我国稀土工业继续高速发展。

  1.4主要生产工艺及设备

  1.4.1高系稀土抛光粉的生产

  以稀土混合物分离后的氧化为原料,以物理化学方法加工成硬度大,粒度均匀、细小,呈面心立方晶体的粉末产品。其主要工艺过程为:原料→高温→煅烧→水淬→水力分级→过滤→烘干→系稀土抛光粉产品。














  主要指标:产品中w(REO)=99%,w(CeO2)=99%;稀土回收率约95%;平均粒经1μm~6μm(或粒度为200目~300目),稀土抛光粉厂家,晶形完好。该产品适用于高速抛光。这种高抛光粉早代替了古典抛光的氧化铁粉()。

  1.4.2中系稀土抛光粉的制备

  用混合稀土氢氧化物(w(REO)=65%,w(CeO2)≥48%)为原料,稀土抛光粉生产,以化学方法预处理得稀土盐溶液,加入中间体(沉淀剂)使转化成w(CeO2)=80%~85%的中级系稀土抛光粉产品。其主要工艺过程为:

  原料→氧化→优溶→过滤→酸溶→沉淀→洗涤过滤→高温煅烧→细磨筛分→中级系稀土抛光粉产品。主要设备:氧化槽,优溶槽,酸溶槽,沉淀槽,河源稀土抛光粉,过滤机,煅烧炉,细磨筛分机及包装机。


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发布时间
2022-10-28 16:19
所属行业
室内涂料
编号
30689977
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