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行业内通常所说的“IP”(ion ting)离子镀膜,是因为在PVD技术中各种气体离子和金属离子参与成膜过程并起到重要作用,为了强调离子的作 用,真空pvd镀膜厂,而统称为离子镀膜。真空镀膜是一种产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术用于生产激光唱片(光盘)上的铝镀膜和由掩膜在印刷电路板上镀金属膜。




主要分为一下几类:

蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。

蒸发镀膜:通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面,真空pvd镀膜厂家,称为蒸发镀膜。这种方法早由M.法拉第于1857年提出,现代已成为常用镀膜技术之一。

蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源,待镀工件,如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后,加热坩埚使其中的物质蒸发。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。




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发布时间
2022-10-31 02:50
所属行业
电镀加工
编号
30712748
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