对于采用低功率曝光机，由于光能量低，造成曝光时间长，则光的折射、衍射等加重，亮面曝光显影哪家好，这对于制造精细节距或高密度互连的导通孔是不利的。
一方面可除去水份和溶剂，肇庆亮面曝光显影，另一方面，主要是使固化进一步完成和深化。
显影检验良品率和重新工艺处理率随掩膜水平而变。
总体上，在掩膜次序中有较宽的特征图形尺寸、较平的表面和较低的密度，所有这些会使掩膜良品率更高。
在晶圆到了关键的接触和连线步骤时，亮面曝光显影加工厂，重新工艺处理率会有上升趋势。
总体上有四类晶圆上的问题适用于显影检验和终检验，如在图案尺寸（关键尺寸测量）上会有偏差；有定位不准的图案；有表面问题如光刻胶的污染、空洞或划伤及污点和其它的表面不规则。
进行曝光操作前，需要对印刷有油墨的pcb高密度多层板进行烘干处理。
光源的选择、打开排气阀，松开上盖扣紧锁，取出电源板件然后继续曝光另一面。
注意：曝光机不能连续曝光，中间间隔3分钟。
不同的油墨曝光时间也不相同。
将板件放在干净的曝光机上玻璃面上，盖上曝光机盖并扣紧，关闭进气阀，设置曝光机的真空时间为10秒，曝光时间60秒。
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