真空蒸镀(PVD)
此乃早期之真空电镀模式，是在高度真空条件下加热金属，使其熔融、蒸发，冷却后在塑料表面形成金属薄膜的方法。其原理乃利用钨丝来当电极，当钨丝被通以电流加热至铝金属之熔点（700至 800℃）时，真空电镀塑料厂家，此时置放在钨丝上之铝金属即被蒸发为铝原子团，此时铝原子团再一层一层表面之被镀物，郁南真空电镀塑料，故此制程亦被称为PVD(Physical Vapor Deition)，物理气相沉积。
PVD镀膜可以一次性完成镀膜，而且PVD镀膜生产工艺稳定，节约能源和节省时间。PVD镀膜的工艺流程首先要提前处理产品，真空电镀塑料工厂，把所处理的产品表面除去油渍和灰尘，真空电镀塑料厂，等待产品干燥之后进行喷涂底漆再进行流平，接着就是主要的PVD镀膜工序，之后就是等待固化后进行打包装箱。而PVD镀膜的施工条件必须除尘及清洗产品，如果除尘效果不好，就会出现PVD镀膜效果不佳，
PVD真空电镀工艺对环境的要求
真空涂层工艺衬底（基底）表面的清洁和处理非常重要。基底表面污染来自各种灰尘、抛光膏、油、汗渍等附着在零件加工、传输、包装过程中的物品；湿空气中产生的氧化膜；吸收和吸附的气体。这些污垢基本上可以通过去除油或化学清洗来去除。
这种真空装置（设备）对真空卫生的要求：所谓的常规真空工艺是指没有特殊要求的真空工艺过程。它们都需要没有积累的污染源。
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