显影的主要过程如下：
对准曝光→曝光后烘→显影→坚膜→显影检测。
.1 对准曝光（Alignment and Exure）
显影的主要过程如下：
对准曝光→曝光后烘→显影→坚膜→显影检测。
对准曝光（Alignment and Exure）
对准曝光阶段是光刻工艺的重要阶段，使用的掩膜曝光机，即光刻机，集中了光刻工艺中重要的工艺技术。对准曝光过程通常在黄光实验室中进行。
曝光工艺是怎样？综上可推出3D玻璃曝光显影技术是PET贴膜工艺的一种补充，南朗凹凸面曝光显影，目前应用范围局限于机型，凹凸面曝光显影工厂，后续技术的突破另当别论。
将需要的图形根据油墨的感光特性制成掩膜板（光罩/Mask)，掩膜板与喷墨后的玻璃紧密接触，通过曝光技术，使图形转印到玻璃之上，凹凸面曝光显影厂家，完成原有印刷之功能。技术关键点：低温平行光源，波长根据油墨特性进行设备，目前光源是一大难点问题。
曝光显影作为玻璃外观修饰的重要工艺，目前技术工艺方面都已趋于稳定，众多设备厂家涉猎这方面的技术。
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