在真空室中利用弧光（或辉光）放电所产生的能量将靶材（钛等金属或合金）直接蒸发（或溅射）离化生成金属离子，并通过电场进行加速与反应气体生成金属化合物，沉积在工件表面.其可以在产品表面镀覆金黄色、黄铜色、香槟色、银白色、黑色、玫瑰色、古铜色、咖啡色、紫铜色、褐色、深黑色等多种美观耐用的装饰膜。
磁控溅射镀膜机
各种镀膜技术都需要一个蒸发源或蒸发靶，以便将蒸发的成膜物质转化为气体。
随着来源或目标的不断提高，气相沉积设备销售，电影制作材料的选择范围也大大扩大。
无论是金属、合金、化合物、陶瓷还是有机物，气相沉积设备厂家，都可以气相沉积各种金属膜和介质膜，不同的材料可以同时气相沉积得到多层膜。
蒸发或溅射出的成膜材料是在一般磁控溅射条件下与待镀工件形成膜的过程。
膜厚可以测量和控制。
磁控镀膜机的真空镀膜技术的特点主要包括真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀、真空束沉积和化学气相沉积。
镀膜设备的镀膜方式：离子镀，蒸发镀，气相沉积设备公司，溅射镀
(1)镀膜设备的特点： 成膜速度快0.1- 50um/min，设备比较简单，操作容易;制得薄膜纯度高;薄膜生长机理较简单。
镀膜设备镀出的产品掉膜是怎么回事?
一、产品表面洁净度不够，气相沉积设备，离子源清洗气放大时间长点。
二、清洗是否有加了清洗剂，或者更换了清洗剂，建议用纯水先试一下。
三、工艺参数是否有变动在膜厚和电流上可以做点调整。
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