凹凸面曝光显影公司 利成感光 乳源凹凸面曝光显影

在显影和烘焙之后就是要完成光刻掩膜工艺的质检。适当地来说应叫显影检验（develop inspect）或DI。检验的目的是区分那些有很低可能性通过终掩膜检验的晶圆；提供工艺性能和工艺控制数据；及分拣出需要重做的晶圆。这时的检验良品率，凹凸面曝光显影订做，也就是通过这个质检的晶圆数量，不会计入终良品率的计算。但是有两个主要原因使之成为很受关注的良品率。

对准曝光阶段是光刻工艺的重要阶段，使用的掩膜曝光机，即光刻机，集中了光刻工艺中重要的工艺技术。对准曝光过程通常在黄光实验室中进行。

使用的光刻机也根据不同的曝光原理，凹凸面曝光显影公司，分为接触式曝光，凹凸面曝光显影生产厂商，接近式曝光和投影式曝光。也可按自动化程度高低分成手动式，半自动式NXQ4006，和全自动式光刻机NXQ8000系列曝光后应尽快进行显影步骤中的烘干处理，从而有效降低驻波效应的影响，


曝光：由于涂覆PCB线路板基材上的绝缘介质层厚度较厚，因此，乳源凹凸面曝光显影，要采用较大率的曝光机对PCB线路板进行曝光，如采用7千瓦的金属卤化物（如钨灯）的灯和在具有平行（或反射好的准平行光）的曝光机上行。

1、曝光过度会导致显影不净。

2、曝光能量不足会导致显影过度。

3、实际曝光能量需根据干膜种类、厚度或油墨种类/厚度/烘烤时间确定，正常线路曝光使用能量40 -- 120mj/cm2，油墨曝光能量150-500mJ/cm2，具体以曝光尺为准；

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