这种双面加工，一般速度不高。
下模比较大，上模比较小，挡圈直径比上模大，比下模小。
适当地调节上模的摆动量，可以实现平板的上下表面同时精磨或抛光。
研磨或抛光时，人工将磨料或抛光粉间断地添加到下模和平板的表面。
这种低速的双面加工，比单面加工提高了效率，但被加工的平面度和双面的平行度则达不到很高的要求，所以只适用于般精度平板的加工。
随着大规模、超大规模集成电路制造技术的发展，由于大批量半导体硅片加工的需要，国外出现了双面高速加工机床，适用于半导体硅片的双面研磨和抛光，进而被推广到高速研磨抛光光电仪器中的光学平板。
早期的双面加工，是在一般的二轴机上，采用上下平模，使用挡圈和分离片对平板的两个面同时进行加工，光学平板，其装置如图12-1所示，主要进行精磨和抛光的双面加工。
加工时，光学平板尺寸定制，下模1随机床主轴转动，上模5在摆架带动下摆动，同时随下模的转动而转动，其转动没有动力，被加工平板2放在分离片3内，摆动的上模将带动挡圈，光学面包板厂家，从而带动被加工平板在下模平面上平动，同时平板亦可以在分离片圈内随上下模的转动而转动。
光学平台系列产品主要用于实验室搭建光路或固定仪器设备。
光学平台安装孔多，抗振能力强，可以有效地将系统与振源隔离;可降低系统内部共振的概率，光学面包板尺寸定制，提高系统的稳定性;可提高平台的共振频率，提高系统性能。
光学平台广泛应用于光电、机械制造、航空航天、冶金、生化分析等领域，以及其他行业的精密试验仪器、设备等需要振动隔离的关键装置中。
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