什么是曝光显影工艺？
不同的物质通过对不同波长紫外光的吸收，分子会发生能级跃迁，从基态跃迁至激发态，改变物质化学性能。
3D曲面玻璃利用曝光显影工艺正好可以解决遮蔽油墨不能通过传统印刷的问题，具有精度高，量产性好，铭牌曝光显影哪家好，良率高等特点。在曝光显影工艺中，只有对以上各种公差配合完全掌握，才能简单可靠的做出合格产品。曝光：由于涂覆PCB线路板基材上的绝缘介质层厚度较厚，
曝光是指将感光板置于晒版机工作台上，放好底片，通过曝光 获得一种潜在或可见图像的过程。曝光是一切光化学成像方法的基本过程与主要特征。曝光的物理含意是指光线使感光层面(涂了感光化学物)产生潜影。曝光后的工序是化学显影，显影使潜影显现并固化。线路板曝光机：用紫外线(UV)的能量，使干膜或印墨中的光敏物质进行光化学反应，以达到选择性局部架桥硬化的效果，完成影像转移的目的称为曝光。
对准曝光阶段是光刻工艺的重要阶段，铭牌曝光显影，使用的掩膜曝光机，即光刻机，集中了光刻工艺中重要的工艺技术。对准曝光过程通常在黄光实验室中进行。
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