100级：是常用的净化工程，除了对空气中的尘埃数有要求，对空气中细菌的浓度也有明确要求。
一般用于行业进行无菌制造，例如制造临床用于植入体内的物品，药品生产。
医学科学实验也在此环境中，包括实验动物饲养环境。
1000级一般只对尘埃浓度做要求，用于光学器件，仪器等高精仪器等10000级，用于液压设备的生产，和一些食品饮料的生产。
100000级，这个级别比较的低，对净化度要求不是很高，主要在印刷厂，包装厂等。
净化工程的一般施工程序：粉尘作业，无尘作业后，不允许交叉作业。
否则会影响项目的质量。
也就是说，在完成所有粉尘产生操作之后，可以进行无尘操作。
现在我们国家的净化工程已经在朝着节能的方向发展了，马鞍山净化工程，除了人士以外，其他人很少知道净化工程的耗能量特别大，时候普通写字楼的20倍，比美国更发达国家高出了15%。
看到这些令人心惊的数字，我们国家的科学家们从节能的角度出发从根本上出出发，净化工程安装，设计出能够节省的相关设备。
直径100um的硅片，温度上升1度，就引起了0。
24um线性膨胀，所以必须有±0。
1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。
排风系统有一般排风系统、有机气体排风系统、酸性气体排风系统、碱性气体排风系统等，净化车间设计时，要根据实际情况选择。
1000级一般只对尘埃浓度做要求，用于光学器件，仪器等高精仪器等10000级，用于液压设备的生产，车间净化工程，和一些食品饮料的生产。
100000级，这个级别比较的低，对净化度要求不是很高，主要在印刷厂，包装厂等。
相对湿度越高，净化工程无尘车间，粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。
对于硅片生产温度范围为35—45%。
布置工艺的流程尽可能短，减少交叉往复，、物流走向合理。
要配备人员净化室、物料净化室，除配备产品工序要求的用室外，还应配备洁具室、洗衣间、暂存室等，每间用室相互独立，净化工程的面积应在保证基本要求前提下，与生产规模相适应。
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