中系稀土抛光粉，主要适用于光学仪器的中等精度中小球面镜头的高速抛光。该抛光粉与高粉比较，可使抛光粉的液体浓度降低11%，稀土抛光粉生产工艺，抛光速率提高35%，制品的光洁度可提高一级，抛光粉的使用寿命可提高30%.目前国内使用这种抛光粉的用量尚少，有待于今后继续开发新用途。
低系稀土抛光粉，如771型适用于光学眼镜片及金属制品的高速抛光；797型和C-1型适用于电视机显象管、眼镜片和平板玻璃等的抛光；H-500型和877型适用于电视机显象管的抛光。此外，其它抛光粉用于对光学仪器，摄像机和照像机镜头等的抛光，这类抛光粉国内用量，约占国内总用量85%以上。
国外于60年前开始生产稀土抛光粉，二十世纪90年代已形成各种标准化、系列化的产品达30多种规格牌号。
目前，国外的稀土抛光粉生产厂家主要有15家（年生产能力为200吨以上者）。其中，法国罗地亚公司年生产能力为2200多吨。是目前大的稀土抛光粉生产厂家。美国的抛光粉年产量能力达1500吨以上。
。日本生产稀土抛光粉的原料采用氟碳矿、粗氯化和氯化稀土三种，工艺上各不相同。日本稀土抛光粉的生产在烧结设备和技术上均具特色。1968年，稀土抛光粉价格，我国在上海跃龙化工厂研制成功稀土抛光粉。
原料→干法细磨→配料→混粉→焙烧→磨细筛分→低级系稀土抛光粉产品。主要设备：球磨机，稀土抛光粉，混料机，焙烧炉，筛分机等。主要指标：产品中w（REO）≥95%，w（CeO2）≥50%;稀土回收率≥95%;产品粒度为1.5μm~2.5μm.该产品适合于眼镜片、电视机显象管的高速抛光之用。目前，国内生产的低级系稀土抛光粉的量，约占总产量的90%以上。
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