原因一：颗粒或是胶体堵塞
进水颗粒度>5um时会造成进水流道堵塞，引起模块内部水分分部不均匀，从而导致模块整体性能降低。
建议：在进入EDI模块前段增设保安过滤器(<0.2um)。
原因二：有机物堵塞
当进水有机物污染TOC或TEA含量超过设计标准时，电子超纯水设备，淡水室的离子交换树脂和离子膜会发生有机物的堵塞。
建议：采用高PH值的对淡水室及浓水室循环清洗。
电子超纯水设备让电子行业遇“芯荒”心不慌
电子超纯水设备让电子行业遇“芯荒” 心不慌芯片的制造过程很复杂，从设计、生产再到封装和测试，每一步都非常重要。在制造环节中要解决的问题有耗材、晶圆、光刻胶、超纯水、各种离子等。芯片制造的关键设备之一是电子电子超纯水设备，可用于生产芯片清洗的超纯水，而超纯水的质量直接影响到芯片的质量。电子超纯水设备采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理等方法，将水中的导电介质几乎完全去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度。超纯水系统设备的脱盐部件为反渗透膜组件、EDI系统和抛光混床，超纯水系统设备通常由预处理部分，反渗透主机部分，后处理部分共同组成。 电子超纯水设备具有抗污染能力强、节能环保、产水水质稳定、脱盐率高、系统内无死水等优势
EDI超纯水系统是电子、化工、电镀等对水质要求较高的行业的一种制水设备。运行能耗低，EDI纯水设备，无酸碱废水排放。虽然设备投资较高，但后期维护成本相对较低，无需酸碱再生。那么，EDI超纯水系统出水电导率受哪些因素影响?
1、原水：原水水质发生变化，原水电导率高，产水自然受到影响。
2、预处理：机械过滤器、活性炭过滤器未定期及时反冲洗。
3、反渗透膜元件损坏或超过使用寿命。
4、保安过滤器污堵。
5、RO除盐率下降和产水量下降10%或RO进水压力上升10%时，有没有及时进行清洗。
6、在不同的进水流量下，EDI超纯水系统出水电导率会随着电流的变化而变化。这是因为在电路中，淡室中的溶液相和树脂相是并联的。离子输送主要是通过树脂相进行的，在一定的淡水流量范围内，流量对树脂的影响较小，因此EDI膜堆的总电流变化不大，而水的电导率变化也很小，因此进水流量对水质的影响相对较小
7、工作电压对出水电导率影响很大。如果工作电压太小，在纯水排出之前，不足以将离子从淡室中移除。电渗析工艺和树脂电再生工艺相对较弱。此时，edi纯水设备，主要进行离子交换过程。随着工作电压的升高，水的离解度增大，树脂再生效果好，淡水电导率降低。当工作电压升高到一定程度时，离子交换过程与树脂再生过程达到平衡，天津纯水设备，产水电导率进一步降低并趋于稳定。然而，过高的工作电压会导致水电离和离子反应扩散过度，降低产水的质量。因此，建议EDI在适当的电压下运行。
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