什么是曝光显影工艺？
不同的物质通过对不同波长紫外光的吸收，分子会发生能级跃迁，从基态跃迁至激发态，改变物质化学性能。
在曝光显影工艺中，只有对以上各种公差配合完全掌握，才能简单可靠的做出合格产品。较薄的油墨利于贴合，提高制程整体良率，摄录机曝光显影，油墨薄可以做到2um，不透光。油墨 预固化
喷涂完成的盖板在高温烤箱进行烘烤，使表面油墨初步固化，提高附着力。
自显机显影套药的性能在使用中，虽经补充仍有衰减。我们通过对自显机显影液性能的系统观测，并分期进行不同且条件补偿，根据补偿后特性曲线试叼于析和选择，提出了较理想的条件补偿值。此法可对不同条件时，摄录机曝光显影价钱，自显机套药性能衰减的条件补偿提出理论依据，使线照片的影像质盈保持恒定。 自显机套药的使用时间又受胶片冲洗量的制约，摄录机曝光显影中心，使用时间越长，摄录机曝光显影工厂，胶片的灰雾度越大，反差越小，药液氧化和衰减越明显。
光刻胶的显影和光刻工艺今天小编要跟大家简要介绍关于光刻胶的显影过程和光刻工艺处理的一些相关内容。光刻工艺可用五个指标来衡量其效果：分辨率、灵敏度、套刻对准精度、缺陷率和硅片加工过程处理问题，使用的光刻机也根据不同的曝光原理，分为接触式曝光，接近式曝光和投影式曝光。目前通常采用曝光后立刻烘干方式，即PEB，减少驻波效应带来的影响。
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