因此其粒度分布一般不大于10μm,粒度大于10μm的抛光粉(包括稀土抛光粉)大多用在玻璃加工初期的粗磨。小于1μm的亚微米级稀土抛光粉,由于在液晶显示器与电脑光盘领域的应用逐渐受到重视,产量逐年提高。纳米级稀土抛光粉目前也已经问世,随着现代科学技术的发展,其应用前景不可预测,但目前其市场份额还很小,属于研发阶段。
以稀土抛光粉中CeO2量来划分:
稀土抛光粉的主要成分是CeO2,据其CeO2量的高低可将抛光粉分为两大类:一类是CeO2含量高的价高质优的高抛光粉,一般CeO2/TREO≥80%,另一类是CeO2含量低的廉价的低抛光粉,其含量在50%左右,或者低于50%,红色稀土抛光粉,其余由La2O3,Nd2O3,Pr6O11组成。
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