1级：尘埃易使芯片失效或者稳定性下降，当金属尘埃落于集成电路上时，就可能造成短路。
当空气中的酸性离子落在电路上时，可能将电路腐蚀，因此净化空调系统对微电子工业而言至关重要。
此外，液晶、光纤的生产也需要1级洁净度的要求。
具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，洁净室净化工程，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。
例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，净化工程设计安装，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。
相对湿度越高，粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。
对于硅片生产温度范围为35—45%。
压力差的维持依靠新风量，这个新风量要能补偿在这一压力差下从缝隙漏泄掉的风量。
所以压力差的物理意义就是漏泄（或渗透）风量通过洁净室的各种缝隙时的阻力。
净化工程在设计时，无论是新建还是重新改造的净化车间，都一定依照国家相关标准、规范进行。
具体工艺对温度的要求以后还要列举，实验室净化工程施工，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。
例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。
洁净室中的温湿度控制。
洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，宿州净化工程，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。
随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。
净化工程在设计时，无论是新建还是重新改造的净化车间，都一定依照国家相关标准、规范进行。
洁净空间的压力要高于非洁净空间的压力。
洁净度级别高的空间的压力要高于相邻的洁净度级别低的空间的压力。
相通洁净室之间的门要开向洁净度级别高的房间"。
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