半导体材料是在集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电等领域进行应用的。半导体材料在应用中会需要一定量的超纯水，可用于清洗，该超纯水电阻率达到了18兆欧，半导体纯水设备，不含导电介质和金属离子，可满足作为半导体清洗用水的需求。采用两级RO EDI 精混床除盐水处理工艺，处理后的水质可达到18MΩ.CM以上，符合半导体用水标准。设备采用如今大热的膜技术，可有效去除水中的导电介质，以及水中不离解的胶体物质、气体及有机物，设备的出水纯度高，无病毒与细菌，不含任何悬浮物、无化学污染，电子超纯水设备，产出的可谓是高品的超纯水了
EDI超纯水系统进水水质指标控制措施如下：
EDI超纯水系统进水水质指标控制措施如下：进水CO2的控制。反渗透前可通过加碱调节pH值，尽可能多地去除CO2，也可通过脱气塔和脱气膜去除CO2。进水硬度控制。结合CO2去除，RO进水可以软化和加碱。当进水含盐量较高时，可加入一级反渗透或纳滤结合脱盐。 TOC控制。结合其他指标要求，唐山纯水设备，增加RO级别以满足要求。浊度和污染指数的控制。浊度和污染指数是RO系统进水控制的主要指标之一。合格的RO出水一般都能满足EDI超纯水系统进水要求。
导致超纯水水质恶化的原因有哪些？1、存储 储存：由于超纯水中溶解离子的浓度很低甚至不存在，超纯水很容易从外部环境中吸收离子污染物。由低级塑料和玻璃制成的储水器将溶解离子和有机物，增加水的电导率，超纯水设备，降低水质。因此，建议使用溶解性低的高等级聚乙烯储水器。 2、通气口 通气口：大多数储水器都有一个排气口，用于取水期间的空气循环。当通气口吸入外部空气时，会将空气中的CO2、细菌、颗粒和挥发性有机化合物一并吸入。这些会污染储水器中超纯水。因此，通气口应配备空气过滤器，以防止有机物、细菌和CO2进入储水器。
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