名称（Name）

真空式等离子处理系统

型号（Model）

CRF-VPO-4L-S

控制系统（Control system）

PLC+触摸屏

电源（Power supply）

380V/AC,50/60Hz, 3kw

中频电源功率（RF Power）

1000W/40KHz/13.56MHz

容量（Volume ）

30L(Option)

层数（Electrode of plies ）

4(Option)

有效处理面积（Area）

200(L)*150(W)(Option)

气体通道（Gas）

两路工作气体可选：Ar、N2、CF4、O2

产品特点

超大处理空间，提升处理产能，采用PLC+触摸屏控制系统，控制设备运行；

可按照客户要求定制设备腔体容量和层数，满足客户的需求；保养维修成本低，便于客户成本控制；

高精度，快响应，良好的操控性和兼容性，完善的功能和技术支持。

应用范围

真空等离子清洗机适用于印制线路板行业，半导体IC领域、硅胶、塑胶、聚合体领域，汽车电子行业，航空工业等。印制线路板行业：高频板表面活化，多层板表面清洁、去钻污,软板、软硬结合板表面清洁、去钻污，软板补强前活化。半导体IC领域：COB、COG、COF、ACF工艺，用于打线、焊接前的清洗；硅胶、塑胶、聚合体领域硅胶、塑胶、聚合体的等离子表面粗化、刻蚀、活化。

等离子清洗机应用在新能源与有(机)溶剂各大优势有哪些呢？

等离子清洗机新能源行业应用如下：

玻璃基板：

使用等离子体技术，对材料表面进行轰击，可有效去除表面污染物，使工件表面亲水性大大提高。清洗后的水滴夹角小于5度，为下道工序的进行奠定良好基础。

阳极表面改性：

用等离子体技对ITO阳极进行表面改性，可有效优化其表面化学组成，大大降(低)方块电阻，从而有效提高能量转换效率，改善器件的光伏性能。

涂保护膜前处理：

硅片表面很光亮，会反射掉大量的太阳光。因此，在其上沉积一层反射系数很小的氮化硅保护膜是很有必要的。通过采用等离子体技术，可活(化)硅片表面，大大提高其表面附着力。

电池行业

极耳、极片、电极柱的焊接改善，提(升)品质，降(低)内阻；

外壳涂装前处理，提高附着力；

电池正负极材料分切后处理，清(除)表面颗粒物，提高电芯品质；

等离子清洗机在有(机)溶剂的湿法清洗的九大优势:

一、清洗对象经等离子清洗之后是干燥的，不需要再经干燥处理即可送往下一道工序。可以整个工艺流水线的处理效率;

二、等离子清洗使得用户可以远离有害溶剂对人体的伤害，同时也避免了湿法清洗中容易洗坏清洗对象的问题;

三、避免使用三氯乙烷等ODS有害溶剂，这样清洗后不会产生有害污染物，因此这种清洗方法属于环保的绿色清洗方法。这在全球高度关注环保的情况下越发显出它的重要性;

四、采用无线电波范围的高频产生的等离子体与激光等直射光线不同。等离子体的方向性不强，这使得它可以深入到物体的微细孔眼和凹陷的内部完成清洗任务，因此不需要过多考虑被清洗物体的形状。而且对这些难清洗部位的清洗效(果)与氟利昂清洗的效(果)像是甚致更好;

五、使用等离子清洗，可以使得清洗效率获得极大的提高。整个清洗工艺流程几分钟内即可完成，因此具有产率高的特点;

六、等离子清洗需要控制的真空度约为100Pa，这种清洗条件很容易达到。因此这种装置的设备成本不高，加上清洗过程不需要使用价格较为昂贵的有(机)溶剂，这使得整体成本要低于传统的湿法清洗工艺;

七、使用等离子清洗，避免了对清洗液的运输、存储、排放等处理措施，所以生产场地很容易保持清洁卫生;

八、等离子体清洗可以不分处理对象，它可以处理各种各样的材质，无论是金属、半导体、氧化物，还是高分子材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亚胺、聚酯、环氧树脂等高聚物)都可以使用等离子体来处理。因此特别适合于不耐热以及不耐溶剂的材质。而且还可以有选择地对材料的整体、局部或复杂结构进行部分清洗;

九、在完成清洗去污的同时，还可以改善材料本身的表面性能。如提高表面的润湿性能、改善膜的黏着力等，这在许多应用中都是很重要的。 目前等离子清洗应用越来越广泛，国内外的使用者对等离子体清洗技术的要求也是越来越高。好的产品还需要专(业)的技术支持与维护!