不锈钢掩模版主要以不锈钢板材为基材制造的掩模版，此掩模版的特点是平面度好、**度高、金属硬度高能够重复使用，适用蒸镀配电线路、电级、处理芯片层等。受到高等院校研发部、科学研究院钟爱。

芯片掩模版适用以处理芯片配电线路蒸镀应用，高质量的原材料再根据我们公司很多年行业经验，制造出来的掩模版平面度高、**度高，有利于掩膜图象的迁移，适宜芯片生产厂家和高校实验室。

掩膜版品质的好坏直接关系光刻技术的品质。在芯片制造过程中需经过十几甚至于几十次的光刻技术，每一次光刻技术都要一块刻蚀掩膜版，每一块光刻技术掩膜版的品质可能会影响光刻技术的品质。光刻技术环节中，一般通过一系列光学元件，将掩膜版里的图型依照 4：1 比例投射在单晶硅片里的光刻技术镀层上。因为在制作中存在一定的设备和加工工艺局限性，光掩膜里的图型并不太可能和设计图象完全一致，则在后续单晶硅片生产流程中，掩膜板里的生产制造缺点和偏差还会伴随光刻技术被加入到芯片制造中。因而光掩膜的质量将直接影响芯片合格率和可靠性。

北京华诺定制的掩膜版误差小，精度高，边缘光滑无毛刺，细节处理良好。是广大用户的明智之选。