| 工程类型 : | 净化工程 |
GB50472—2008《电子工业洁净厂房设计规范》
GB51123-2015《光纤器件生产厂工艺设计规范》
光纤器件无尘车间
研磨抛光车间、熔融拉锥车间和平面波导法生产工艺车间温度宜保持在10℃～30℃之间，相对湿度宜保持在40%～75%。
研磨抛光车间、平面波导法生产工艺车间应为30万级及以上的厂房，熔融拉锥法生产工艺车间和光刻车间应为100万级以上的洁净厂房。
研磨抛光工序、熔融拉锥工序和光刻工序应在洁净室，光纤耦合器和隔离器的组装封装宜在洁净区或洁净室。
研磨抛光工序、熔融拉锥工序和光刻工序应在洁净室，光纤耦合器和隔离器的组装封装宜在洁净区或洁净室。
光纤器件生产厂房洁净区空气洁净度等级宜为8级，换气次数宜为12至15次。
厂房室内温度宜为
洁净区压差控制应按照《洁净厂房设计规范》GB 50073的规定执行，宜不小于10Pa。
生产中产生粉尘和有害气体的工艺设备，应设局部排风装置，对排风介质中有害物应进行处理。
洁净室内灯具的布置，不应影响气流组织，并应与送风口协调布置；
●食品工业洁净用房净化空调系统；
●GMP医药工业洁净厂房净化空调系统；
●微电子、光电无尘车间净化空调系统；
江西全立森洁净技术有限公司
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