| 最高温度（℃） : | 1900/2400 |
- 产品描述：
- 该设备可用于陶瓷胚体和制品的反应烧结、无压烧结、重结晶烧结等，也可用于陶瓷粉体材料的制备。具有卧式和立式两种结构，可选配脱脂系统。
- 应用范围：
- 碳化硅、氮化硅、氮化铝等陶瓷制品。
真空烧结炉（碳化硅/氮化硅/氮化铝）技术特征
采用顶立科技专属超高温、大电流引电技术，能在高温条件下长时间稳定使用；
采用特殊的高温红外测量技术，控温准确，误差小；
配置专属密封马弗，产品产生的硅蒸汽等副产物对加热器及绝缘材料等的污染小；
配备高效尾气处理装置，环境友好，易清理；
该设备可选择配置脱脂系统，实现陶瓷制品的脱脂烧结一次性处理。
真空烧结炉（碳化硅/氮化硅/氮化铝）配置选择
炉门：丝杆升降/液压升降/手动升降；手动锁紧/自动锁圈锁紧
炉壳：全碳钢/内层不锈钢/全不锈钢
炉胆：软碳毡/软石墨毡/硬质复合毡/CFC
加热器、马弗：等静压石墨/模压三高石墨/细颗粒石墨
热电偶：C分度号/S分度号/R分度号/B分度号
红外仪：单比色/双比色；千野/雷泰