多源有机无机蒸发系统
想了解更多关于电阻热蒸发镀膜产品的相关资讯，请持续关注本公司。
主要用途：
用于纳米级单层及多层金属膜、 半导体膜等新材料的制备。广泛应用 于大专院校的薄膜材料科研。
系统组成:
由真空室、蒸发源、样品台、 真空测量、膜厚测试、电控系统组成。
技术指标：
极限真空度5.0×10-5Pa，系统漏率：1×10-7PaL/S； 恢复真空时间：40分钟可达6.6×10 Pa
真空室：D形真空室，尺寸350× 380mm
样品台：尺寸为4英寸厚度3mm的平面样品；
电极：数量：4支水冷结构；直径Φ20㎜
样品基片:，基片在镀膜位置实现自转。基片的温度从室温至600℃
4套挡板系统：基片挡板与源挡板；靶挡板共有3套，多源有机无机热蒸发镀膜机厂家， 样品挡板（１套）
石英晶振膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999?
可选分子泵组或者低温泵组合涡旋干泵抽气系统。
欢迎拨打图片上的热线电话或关注沈阳鹏程真空技术有限责任公司！
钙钛矿蒸发镀膜机的特点
1、样品位于真空室上方，有机无机热蒸发镀膜机厂家，蒸发源位于真空室下方，向上蒸发镀膜，且蒸发源带有挡板装置。</span>
2、设有烘烤加热功能，可在镀膜过程中加热样品，烘烤加热温度可达180℃。
3、设有断水、断电连锁保护报警装置及防误操作保护报警装置。
以上就是关于电阻热蒸发镀膜产品的相关内容介绍，如有需求，欢迎拨打图片上的热线电话！
什么是蒸发镀膜？
蒸发镀膜常称真空镀膜。
其特点是在真空条件下，材料蒸发并在玻璃表面上凝结成膜，再经高温热处理后，在玻璃表面形成附着力很强的膜层。有70 多种元素、50 多种无机化合物材料和多种合金材料可供选择。PVD工艺的首要条件是在真空条件下操作，因为限量以上的残余气体会影响膜的成分和性质。为了实现镀膜工艺，要求残余气体的压力为0.1～1Pa。
ZF350有机无机联合制备：采用3～4组蒸发源可兼容金属、有机物蒸发。广泛应用于高校材料、物理、化学、电子、能源等相关学科以及科研院所制备高质量功能薄膜、蒸镀电极等，特别适合OPV/钙钛矿/无机薄膜太阳能电池、半导体、有机EL、OLED显示研究与开发领域。
技术要求：
1、镀膜室：镀膜腔室尺寸约为Φ350×450mm，不锈钢材料，圆柱形前开门结构，内带有防污板。
2、抽气系统：采用分子泵 机械泵抽气系统；
2.1、真空度：镀膜室的极限真空≤6×10-4Pa；
2.2、系统漏率≤1×10-7PaL/s。
3、蒸发源系统：有机源蒸发源一个，单室有机无机热蒸发镀膜机厂家，容积5ml，一台蒸发电源，可测温控温，加热温度400℃，功率0.5Kw；
4、样品架系统：样品架可放置大小为Φ100mm的样品，载玻片；旋转速度为：0～30转/分；
5、样品在镀膜过程中，带有烘烤加热功能，烘烤加热温度为：室温～400℃，测温控温。
6、设备带有断水断电连锁保护报警装置、防误操作保护报警装置。
以上就是关于电阻热蒸发镀膜产品的相关内容介绍，如有需求，
欢迎拨打图片上的热线电话或关注沈阳鹏程真空技术有限责任公司！
多源有机无机热蒸发镀膜机厂家-北京沈阳鹏程真空技术由沈阳鹏程真空技术有限责任公司提供。沈阳鹏程真空技术有限责任公司（www.pengchengzk.com）是辽宁 沈阳 ,成型设备的翘楚，多年来，公司贯彻执行科学管理、创新发展、诚实守信的方针，满足客户需求。在沈阳鹏程领导携全体员工热情欢迎各界人士垂询洽谈，共创沈阳鹏程更加美好的未来。
