蒸发镀膜：通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。这种方法较早由M.法拉第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之一。
蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，待镀工件，如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后，加热坩埚使其中的物质蒸发。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间（或决定于装料量），锌合金加工手机指环扣公司，并与源和基片的距离有关。
放电产生的正离子在电场作用下飞向阴极，手机指环扣，与靶表面原子碰撞，受碰撞从靶面逸出的靶原子称为溅射原子，其能量在1至几十电子伏范围。溅射原子在基片表面沉积成膜。与蒸发镀膜不同，锌合金加工手机指环扣工厂，溅射镀膜不受膜材熔点的限制，可溅射W、Ta、C、Mo、WC、TiC等难熔物质。溅射化合物膜可用反应溅射法，即将反应气体(O、N、HS、CH等)加入Ar气中，反应气体及其离子与靶原子或溅射原子发生反应生成化合物（如氧化物、氮化物等）而沉积在基片上。沉积绝缘膜可采用高频溅射法。
如今在许多电镀加工厂中相对于传统的电镀工艺，锌合金加工手机指环扣厂商，真空电镀加工技术具有三大长处：
一：堆积资料广泛：可堆积铝、钛、锆等湿法电镀无法堆积的低电位金属，通以反响气体和合金靶材更是能够堆积从合金到陶瓷甚至是金刚石的涂层，并且能够根据需要规划涂层系统。
二：节省金属资料：因为真空涂层的附着力、致密度、硬度、耐腐蚀功能等适当优良，堆积的真空电镀镀层能够远远小于惯例湿法电镀镀层，到达节省的意图。
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