光刻胶介绍
光刻胶是一种对光线、温度、湿度十分敏感的材料，可以在光照后发生化学性质的改变，这是整个工艺的基础。
光刻胶有不同的类型，PMMA（PMGI）以及DNQ（酚醛树脂）等材料都可以做光刻胶。
目前光刻胶市场上的参与者多是来自于美国、日本、韩国等国家，包括 FUTURREX、陶氏化学、杜邦、富士胶片、信越化学、住友化学、LG化学等等，玻璃光刻胶报价，中国公司在光刻胶领域也缺少核心技术。
NR9-1000py
问题回馈：
1．我们是LED制造商，麻烦推荐几款可以用于离子蚀刻和Lift-off工艺的光刻胶。
A 据我所知，Futurrex
有几款胶很，NR7-1500P
NR7-3000P是专门为离子蚀刻
设计的，NR9-3000PY可以用于Lift-off上的应用。
2．请问有没有可以替代goodpr1518，玻璃光刻胶价格，Micropure去胶液和goodpr显影液的产品？
A 美国光刻胶，Futurrex
正胶PR1-2000A
， 去胶液RR4，和显影液RD6可以解决以上问题。
3．你们是否有可以替代Shipley
S1805的用于DVD的应用产品？
A 我们建议使用Futurrex
PR1-500A ， 它有几个优点：比较好的解析度，比较好的线宽控制，
反射比较少，不需要HMDS，RIE后去除容易等~
4． 求助，耐高温的光阻是那一种？
A Futurrex， NR7 serious(负光阻)Orpr1 serious(正光阻)，再经过HMCTS
silyiation process，可以达到耐高温200度，PSPI透明polyimide，可耐高温250度以上。
5．厚膜光阻在镀金应用上，用哪一种比较理想？
A Futurrex ， NR4-8000P比干膜，和其他市面上的湿膜更加适合，和理想。
6．请教LIFT-OFF制程哪一种光阻最适合？
A 可以考虑使用Futurrex
，正型光阻PR1，负型光阻用NR1&NR7，它们都可以耐高温180度，完全可以取代一般制作PATTERN的光阻。
7．请问，那位专家知道，RIE
Mask，用什么光阻比较好？
A 正型光阻用PR1系列，负型光阻使用NR5，两种都可以耐高温180度。
8．一般厚膜制程中，玻璃光刻胶公司，哪一种光阻最适合？
A NR9-8000P有很高的深宽比（超过4：1），玻璃光刻胶，一般厚膜以及，MEMS产品的高需求。
9．在DEEP
RIE和MASK 可以使用NRP9-8000P吗？
A 建议不使用，因为使用NR5-8000更加理想和适合。
10．我们是OLED，我们有一种制程上需要一层SPACER，那种光阻最适合？
A 有一种胶很适合，美国Futurrex
生产的NR1-3000PY
and和
NR1-6000PY，都适合在OLED制程中做spacers
4，曝光
前烘好的存底放在光刻胶衬底放在光刻机上，经与光刻版对准后，进行曝光，接受光照的光刻胶发生化学变化，形成潜影，
光源与光刻胶相匹配，也就是光源波长在光刻胶的敏感波段；
对准：指光刻板上与衬底的对版标记应准确对准，这样一套光刻版各版之间的图形才能彼此套准。
曝光时间，由光源强度，光刻胶种类，厚度等决定，
另外，为降低驻波效应影响，可在曝光后需进行烘焙，称为光后烘焙（PEB）
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