1) 封装层进行器件综合时，射频电磁场，由于金属层很厚，高频趋肤效应导致金属电流边沿分布。Peakview提供多电流层剖分（multi-sheet current），设计中可根据金属厚度，工作频率进行金属电流多层剖分，提升仿精度；
2) 支持多文件格式（如：Pcircuit file、ODB 、GDSII file）的导入、导出，方便不同格式来源的封装版图导入；
3) 提供版图合并功能，软件导入芯片版图和封装版图后，可完成多个独立版图按需合并，电磁场，对合并后的版图进行联合仿。在合并时，可以对版图进行旋转、坐标偏移设置，方便设计人员按照实际电路进行调整。
体电阻率和方块电阻是一个意思，终都会折算到金属电导率，其差异变化会影响金属层电导率波动。电导率波动会直接影响EM结果，例如器件损耗等；线宽波动也会直接对EM结果带来差异影响，例如L、Q等。
下面截图是PDK中LDE信息：
Peakview软件的配置文件中考虑了LDE，保证精度更接近实测结果。在当前先进的工艺中，更能提升流片成功率。在一些7nm等先进工艺中，EM电磁场仿zhen软件，PDK信息是加密的，这种LDE信息已不能靠人工处理，peakview可以通过软件自动解析进行加载，为工作带来精度保证和便利。
Peakview会识别PDK中的LDE信息，转换配置文件时以方块电阻变化表、线宽变化表映射LDE信息。时peakview根据不同的设计尺寸来查表，调用实际的方块电阻和线宽值，确保结果更接近实测值。
特征阻抗是传输线的物理参数，和走线尺寸，周围环境等有关系，所以在传输线分析时，明确特征阻抗具体含义对版图布局合理性评估非常重要。
后续我们从基尔霍夫电压电流关系入手，让大家对特征阻抗、反射系数有一个基础认识，在设计中才能清晰的明确阻抗不连续、反射、振铃等问题发生的根本原因。
然后从波动方程推导中，电磁场EDA软件，抽出实用的几个公式，方便我们设计中进行定性的问题分析，在方案迭代中提供方向性指导。
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