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实体结构:布满集成电路图像的铬金属薄膜的石英玻璃片上的图像。倍缩光掩模(Reticle):当铬膜玻璃仅能局部覆盖晶圆称为倍缩光掩模,通常图型要放大4倍、5倍或10倍。光掩模(Mask):当铬膜玻璃上的图像能覆盖整个晶圆时称之为光罩。
公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,定制版图,浙江光刻版,苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务!
一种具有保护环的光刻板,包括光刻板本体和设置在光刻板本体外圈的保护环,所述保护环紧密围在光刻板本体的外部边缘处并将内部的光刻板本体围起,杭州光刻版,所述保护环上具有圆型开孔、直角型开孔与直线型开孔,所述直角型开孔设置在光刻板本体的转角处,所述直线型开孔设置在光刻板本体的水平边缘与竖直边缘,苏州光刻版,所述圆型开孔设置在直角型开孔与直线型开孔的连接处。
光掩膜上游主要包括图形设计、光掩膜设备及材料行业,光刻版,下游主要包括IC制造、IC封装、平面显示和印制线路板等行业,应用于主流消费电子 (手机、平板、可穿戴设备)、笔记本电脑、车载电子、网络通信、家用电器、LED 照明、物联网、电子等终端产品。
目前全球范围内光刻掩膜版主要以专业生产商为主。由于下游应用领域厂商自建光刻掩膜版生产线的投入产出比很低,且光刻掩膜版行业具有一定的技术壁垒,所以光刻掩膜版都是由专业的生产商进行生产。
光刻版-苏州制版-浙江光刻版由苏州优版光电有限公司提供。苏州优版光电有限公司(www.szphotomask.com)为客户提供“光电材料,光刻掩膜版”等业务,公司拥有“苏州制版”等品牌。专注于光电子、激光仪器等行业,在江苏 苏州 有一定知名度。欢迎来电垂询,联系人:马经理。