光掩膜是刻有微电路的版，由表面纯平并带有一层铬的石英板或玻璃板制作而成，蚀刻后的残留铬部分即为设计的微电图。这种制版方式在掩膜行业称为光透。
半导体集成电路制作过程通常需要经过多次光刻袭工艺，在半导体晶体表面的介质层上开凿各种掺杂窗口、电极接触孔或在导电层上刻蚀金属互连图形。光刻工艺需要一整套（几块zhidao多至十几块）相互间能套准的、具有特定几何图形的光复印掩蔽模版。
公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！
尺寸涨缩原因分析
胶片在光绘前没有经过预置
由于胶片制造时无法预先控制胶片中的湿度与每个生产车间的湿度一致，掩膜板，因此使用之前应先使其与工作环境达到平衡的状况。建议预置时间为12小时，预置时必须打开胶片的内包装，使其与外界的空气充分接触。
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玻璃反光解决方案
使用背光源，在玻璃下方用光源吧吧整个玻璃照亮可使玻璃不会反光在条件不允许使用背光源情况下使用 上光源 吧玻璃全部照亮，不要产生点光源得效果在机器视觉标定时使用蓝光效果会更好得标定如果以上解决不了得话，可选用陶瓷标定板，表面漫反射效果 不会反光，
掩膜板-光刻版厂由苏州优版光电有限公司提供。苏州优版光电有限公司（www.szphotomask.com）在光电子、激光仪器这一领域倾注了诸多的热忱和热情，苏州制版一直以客户为中心、为客户创造价值的理念、以品质、服务来赢得市场，衷心希望能与社会各界合作，共创成功，共创。相关业务欢迎垂询，联系人：马经理。
