公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，掩膜版，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！
光刻版在使用过程中不可避免的会粘上灰尘、光刻胶等污染物，这些污染物的存在直接影响到光刻的效果。为了保证光刻版洁净，必须定期对光刻版进行清洗，而清洗的效果与清洗工艺以及各清洗工艺在设备上的合理配置有着密切的联系。
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光刻掩模版通常用石英玻璃做为化学反应，选用方解石是因为其的近紫外线穿透率。掩模版遮光一部分用Cr，有时候也叫铬板。选用灯的g线应i线，在于你常用的光刻胶，每个光刻胶产品介绍都是列举其所比较敏感的纳米段。
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什么是光刻掩模板
在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构，称为光刻掩模版。
半导体集成电路制作过程通常需要经过多次光刻工艺，在半导体晶体表面的介质层上开凿各种掺杂窗口、电极接触孔或在导电层上刻蚀金属互连图形。光刻工艺需要一整套（几块多至十几块）相互间能套准的、具有特定几何图形的光复印掩蔽模版。
光刻板-浙江掩膜版由苏州优版光电有限公司提供。苏州优版光电有限公司（www.szphotomask.com）有实力，信誉好，在江苏 苏州 的光电子、激光仪器等行业积累了大批忠诚的客户。公司精益求精的工作态度和不断的完善创新理念将促进苏州制版和您携手步入，共创美好未来！
