ST系列镀膜机
ST系列镀膜机系我司标准化产品，满足大部分实验室科研需求，丰富的可选配置也可响应您的特殊需要。
特点：1、集成一体化结构。
2、极限真空度高，可达7×10-5Pa，可保证更高的镀膜纯净度，提高镀膜质量。
3、从大气到工作背景真空（7×10-4Pa）时间短，真空镀膜系统报价，30分钟左右（充干燥氮气）。
系统停泵关机12小时后真空度：≤8Pa。
4、整机采用柜式结构，密封性能好，防尘防水，安全。
5、磁控、热蒸发多种镀膜方式可选。
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多功能真空镀膜机
真空镀膜机工作时，需要先抽真空，使真空室处于真空状态，再进行镀膜；镀膜完成后，需要向真空室充气。
现有技术中，真空镀膜机的充气管道直接与外界连通，容易把外界空气中的灰尘带入真空室，导致镜片上吸附灰尘，造成产品不良真空蒸渡金属薄膜是在高真空条件下，以电阻、高频或电子加热使金属熔融气化，在薄膜基材的表面附着而形成复合薄膜，其中被镀金属材料用的最1多的是铝，在塑料薄膜或纸张表面镀上一层极薄的金属铝即成为镀铝薄或镀铝纸，在镀铝薄膜生产过程中对于真空条件是有严格限定的，真空度过高或过低都会影响镀膜的性能，目前，工厂里使用的镀膜机对于真空度的控制并不是很稳定，导致生产过程中产品的性能不够稳定，因此，解决生产过程中镀膜机里的真空度不易控制的问题尤为重要，而且内部镀膜物件的温度高，需要及时降温，提高工作效率。
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真空镀膜机
真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。
主要思路是分成蒸发和溅射两种。
需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材。
基片与靶材同在真空腔中。
蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。
并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。
对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。
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