集成电路纳米硅抛光液
主要由高纯度的胶态氧化硅微粒所组成，可避免加工元件产生刮伤的现象，特别用于特别适用于铌酸锂、钽酸锂、蓝宝石、石英等电子材料、光学晶体、金属等抛光。
纳米级抛光液应用领域：
1.金属类材料，如不锈钢，铝件，锌合金
2.LED蓝宝石衬底，表镜片，晶体，宝石
3.光学镜片，光学玻璃，石英
4.磁头，硬盘
5.光纤以及光伏企业
技术参数：
平均粒径(NM) |
Sio2含量(%) | PH值 | 比重 | 密度(g/ml) | 稀释比例 | ||
| 50 | 40.0 | 40 | 10.2 | 1.30 | 1. 15±0.05 | <1:1~20 | |
| 80 | 72.0 | 40 | 10.2 | 1.30 | 1. 15±0.05 | <1:1~20 | |
| 100 | 100 | 40-41 | 10.5-11 | 1.5 | 1.20±0.05 | <1:1~20 |
去除率：2-5um/小时
包装规格：20KG/桶 、25KG/桶
储存方式：存放温度为5℃-35℃，避免阳光照射；
保质期限：碱性抛光液保质期为一年。
