真空抽不上去的原因
1、漏率偏高就是我们通常所说的漏气;.
2、真空机组的抽气能力不够了，油被污染或氧化了:
3、真空室内太脏放气;
4、真空室内有漏水;
5、真空管道有漏气;.
6、或者是以上几种可能都有。
出现问题首先是要判断，是不是拆卸过东西，是不是漏水?阀门打开了吗?根据现象判断原因，然后再去根据判断找问题，可能会收到事半功倍的效果。
养成良好的卫生习惯
相比以前我们厂的设备是灰尘满面、油渍不堪。
也许很多人都认为，设备只要正常运转就可以了，搞得再干净也是做表面工作。
我可是这样认为的，一个人连表面工作都作不来，那真的还有内在、实在的工作吗?当然设备和设备周围的灰尘、油污对设备的本身的影响也是相当之大的。
灰尘能产生静电，损坏电子元件;油污能使电线、水管硬化开裂，造成一些意想不到的问题出现。
特别我们使
用的真空设备，还有它本身的特殊性。
真空设备讲究的是-一个真空清洁度，真空清洁度越差，放气性就越大。
这样使设备抽到较高的真空度所需的时间就越长。
或者根本就无法抽到。
这样一来就减少我们的产量，二来影响到了我们的产品的质量。
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薄膜均匀性概念
1.厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看（也就是1/10波长作为单位，约为100A），真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。
但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。
2.化学组分上的均匀性： 就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性，SiTiO3薄膜，如果镀膜过程不科学，那么实际表面的组分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技术含量所在。
具体因素也在下面给出。
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现代真空镀膜机膜厚测量及监控方法
涂层的镀膜机控制方法是直接的石英晶体微天平(QCM)的方法，该仪器可以直接驱动的蒸发源，通过PID控制回路传动挡板，使蒸发率。
只要仪器和系统控制软件的连接，它可以控制涂层的全过程。
但(QCM)的准确性是有限的，镀膜机部分原因是其监测代替光学厚度的涂层质量。
此外，虽然QCM在低温下非常稳定，但温度高，它将成为对温度很敏感。
在长时间的加热过程中，镀膜机很难避免传感器为敏感的区域，导致薄膜的重大错误。
光学监测是一种涂层优选的监控模式，真空镀膜系统公司，镀膜机这是因为它能准确控制膜的厚度(如果使用得当)。
精度的提高，由于许多因素，但根本的原因是光学厚度的监测。
optimalswa-i-05单一波长的光学监测系统，是间接控制，镀膜机先进的光学监测软件结合王博士的发展，有效地改善和灵敏度变化的光反应的膜厚度的减少终的误差的理论方法，提供监测波长的反馈或传输模式的选择和广泛的。
特别适用于涂布各种薄膜厚度监控包括不规则的膜。
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