北京欧普兰科技有限公司（简称：北京欧普兰）长期和各大IC设计公司进行技术合作，从设计和场方面对片上无源器件具有深入了解和综合经验。能够提供各种无源器件综合建模流程方案，且已在国内外市场得到了充分验证，精度可靠。
项目上述要求，我公司方案均能满足：
能进行模型优化 扫描，以模型尺寸参数化理念进行综合，根据优化目标值和扫描设定可随意进行参数遍历调整，提供的综合模型，以及生成的多种模型，方便设计折中选取。
能够通过技术手段调整器件模型面积，以及改变模型长宽比，在确保模型精度前提下，保证版图面积的合理利用。下图给出版图面积和长宽比的调整方案举例：
计中牵扯到 2 个主要参数（LAB、 K），需同时满足目标值，所以将 LAB 进行优化设定，
而 K 值通过 sweep 生成多个拓扑结构进行选取。
（1） 先将‘turns’设置为 3，蓝牙 EM软件，直接，看看默认这些物理参数条件下 LAB 大概是
多少，结果尽量在目标值 1.5nH 左右， 方便后续优化 sweep 迭代。
（2） 对 LAB 进行优化，选‘Outer Radius’进行调整，目标值 1.5n， 频率点就默认的
即可。（反正看的是全频段结果，在高频时应该感值会增加）
（3） Sweep 设置， 为了得到较多的物理拓扑结构， 选择 2 个物理尺寸进行扫描（线
宽 w 和线间距 S），将‘Width’和‘Spacing’设置为变量 w、 s 后，点击‘OK’，
会弹出变量设置对话框。设置 s、w 的起止尺寸和点数（注意不要违反 DRC rule）。
本例中 w 设置 6 个点， s 设置 5 个点，这样会有 30 个拓扑结构， 那么 K 值选择
范围会大些。
（4） 类型自行选择，本例为了快速，选择的低精度‘interconnect’。也仅生
成 nport 模型，没有勾选集总 PBM 模型。
peakview与业界主流的EDA软件都无缝集成，与foundry的流片工艺准确对接
1) 地利用自动化进行电磁场sim，支持编辑脚本
2) 可以zonghe版图，做EM sim， 可以与Virtuoso 和ADE无缝集成。
3) 直接导入Virtuoso版图或者ODB ，GDSII与文件；
4） 与Mentor、sys工具无缝集成
，也支持脚本或命令行形式的sim。